“18th international display workshops(idw '11)”(2011年12月7~9日,名古屋國際會場)在會程上將有源矩陣(amd)與有機el(oled)的會議時間錯開,因此筆者聽到了想聽到的所有發(fā)表,非常過癮。如果會方以后也能夠像這次一樣將相關(guān)會議的時間錯開的話,那就太感激不盡了。
但此次的idw同時也有無法理解的地方,那就是“oled2”有organic tft會議(有機tft會議),而“amd5”也成了organic tft會議,organic tft到底以什么標準來界定,是屬于oled類,還是屬于amd類,這一點讓人有些糊涂。筆者希望,包括與柔性顯示器相關(guān)的內(nèi)容在內(nèi),今后最好能夠明確以什么標準來對發(fā)表實施分類。個人認為,增加聯(lián)合會議也是一項不錯的選擇。
有機tft、氧化物tft、透明顯示器的發(fā)表接連不斷——amd會議最后一天
在有機tft會議上,日本凸版印刷首先做發(fā)表,介紹了用于形成有機tft的印刷技術(shù)(論文編號:amd5-1)。該公司表示,在形成柵電極和源漏電極時適于使用膠版印刷,在形成有機溝道層時適于使用柔版印刷,在形成層間絕緣膜和像素電極時適于使用絲網(wǎng)印刷。膠版印刷具有高分辨率(支持5μm行距)、高處理量、可大面積操作的特點。柔版印刷具有均勻性好、油墨利用效率高、圖案再現(xiàn)精度出色、可避免雜質(zhì)污染等特點。該公司使用這些印刷技術(shù),在未使用任何光刻工藝的情況下,在pen基板上試制了5.35英寸150ppi、2英寸50ppi、11英寸73ppi的有機tft陣列,并使用臺灣e ink公司的薄膜制成柔性電子紙,確認了工作情況。
東京大學(xué)等發(fā)表了可使用浮游柵來控制vth特性的有機el驅(qū)動用有機tft陣列(論文編號:amd5-3)。通過以3倍于通常柵極電壓的60v電壓向浮游柵施加寬50ms的脈沖波形來控制特性。像素電路為3t1c(3個晶體管、1個電容器)型,在監(jiān)視驅(qū)動用tft的特性偏差和有機el的劣化的同時來驅(qū)動。東京大學(xué)表示,與以往的外部補償電路相比,可進一步減小電路規(guī)模。
日本旭硝子公司和東京工業(yè)大學(xué)發(fā)表了提高氧化物tft可靠性的手段——將器件整個密封起來的玻璃粉密封技術(shù)(論文編號:amd6-5l)。水蒸汽透過率wvtr的數(shù)值降到了10-6g/m2/天以下。據(jù)稱,實施該玻璃密封后,非晶igzo(a-igzo)tft的可靠性得到大幅提高。對非晶igzo(a-igzo)tft實施20小時5μa室溫額定電流沖擊試驗后檢測了vth漂移量。結(jié)果表明,在實施玻璃密封時為0.3v,而未實施玻璃密封時為1.5v。即使在60℃、濕度90%的條件下,20小時后的vth漂移量也降到了0.5v。tft為底柵構(gòu)造的背溝道蝕刻型,經(jīng)確認,即使沒有鈍化膜,只靠玻璃密封膜也可獲得如此大的可靠性提高效果。
韓國三星電子發(fā)表了開發(fā)透明液晶顯示器的意義(論文編號:amd7-2)。雖然這是應(yīng)用會議上的發(fā)表,基本不涉及技術(shù)內(nèi)容,但從中可深切體會到液晶行業(yè)身處的嚴峻形勢以及對透明液晶顯示器這一新應(yīng)用的極大期待,非常有趣。在作為led背照燈液晶電視的下一輪沖擊波而備受期待的三維(3d)電視及智能電視增長缺力的情況下,液晶行業(yè)期待出現(xiàn)新的巨大沖擊波,而三星看好的正是透明液晶顯示器。該公司使用大量具體應(yīng)用例的示意圖做了演示,內(nèi)容非常精彩。作為可實現(xiàn)新型數(shù)字標牌及新型人機接口的裝置,透明液晶顯示器有望獲得市場好評。不過,冷靜想一下這種顯示器要求的各項性能指標以及實現(xiàn)這些指標時的成本,要說這種顯示器能夠掀起巨大沖擊波,也許還有很大難度。
富士膠片發(fā)表了遷移率超過40cm2/vs的高性能igzo tft(論文編號:amd8-4l)。據(jù)該公司介紹,通過利用氧的穩(wěn)定同位素18o實施干式退火處理,評測了氧向igzo膜中的擴散狀態(tài),獲得了在350℃以上的溫度下氧開始向膜中擴散,在450℃下到達15nm深處的結(jié)果。該公司根據(jù)這一結(jié)果試制了以下兩種構(gòu)造的tft。首先在p型硅晶圓上形成100nm厚的熱氧化sio2膜,將其作為柵電極和柵絕緣膜來使用。然后在上面先形成第一層、即厚5nm的in1.85ga0.15zno4膜作為載流子密度高的主載流子層,之后再在上面形成第二層、即in0.5ga1.5zno4膜作為第一電阻膜。該公司利用第一電阻膜的厚度為8nm(type a)和50nm(type b)的兩種tft做了實驗。以上述狀態(tài)在450℃干氧霧環(huán)境下實施了退火處理。type a的tft在退火后又層疊了in0.5ga1.5zno4膜,使合計膜厚達到50nm。最后再利用掩模板形成ti/au源漏電極。
憑借這一構(gòu)造,type a的遷移率達到41.8cm2/vs,type b的遷移率達到38.4cm2/vs。雖然兩種構(gòu)造的tft之間遷移率差距較小,但對光沖擊的變化卻存在很大差異。尤其在λ<400nm的范圍內(nèi),type a的vth漂移量為-0.05v,而type b的vth漂移量卻達到了-0.38v。根據(jù)這些實驗結(jié)果,富士膠片得出結(jié)論:控制氧向igzo膜中的擴散量,可為提高tft的遷移率和抗光沖擊性做出貢獻。
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