問：用pid怎樣控制膜層厚度？
答：最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(qcm)。這種儀器可以直接驅動蒸發源，操作斜面及浸泡步驟，通過pid控制循環驅動擋板，保持蒸發速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。我們還可以選用相互隔離的雙重傳感器探頭，它既提供了安全備份，而且還可用來進行多層厚膜的鍍制。但是，qcm的精確度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。此外，雖然qcm在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
光學監控是高精密鍍膜的首選監控方式，這是因為它可以更精確地控制膜層厚度(如果運用得當)。精確度的改進源于很多因素，但最根本的原因是對光學厚度的監控。光學厚度可以采用直接測控，即在基片上進行測控，也可以在單獨的監控片上進行間接測控，間接監控的優點是靈活性強，但我們在應用時必須能夠容忍監控片與基片間的差異。多年來，人們發展了很多有效提高光學反應對膜厚變化靈敏度的理論和方法來減少終極誤差，典型的光學監控軟件提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長。波長可以利用窄帶濾波器或單色儀進行選擇。雖然單色儀的價格相對昂貴，但它可以在很寬的范圍內提供連續可選的波長。另外，我們還可采用帶多重光柵的單色儀來選擇波長。紫外區，可見光區和紅外區都有其與眾不同的特性，因此必須認真選擇光源及檢波器，使之與監控儀的工作波長相匹配。


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